都城高専（都城市）の野口大輔准教授（材料化学）を中心とした産学グループが、スパッタ法で酸化チタンを原料にした光触媒薄膜を基板に形成する際、１００度以下の低温で効率よく成膜する製造技術を世界で初めて開発した。

　既に量産ベースでの応用にめどを付けており、これまで耐熱性の問題から光触媒薄膜を形成できなかったプラスチック基板などで新用途開発につながる見通しだ。

　参加している民間企業は自動車部品など製造のホンダロック（宮崎市佐土原町）、真空装置メーカーのシンクロン（神奈川県）。グループはシンクロンの技術をベースに２段階に分けて成膜、薄膜構造を多層化する新技術を確立した。加熱処理を加える従来技術の１０倍のスピードで基板表面に薄膜を形成できることを確認し、８月に特許出願した。